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Molecular dynamics of ion beam implantation of xenon, argon and silicon in crystalline silicon

A. Moreno Barrado, M. Castro

International Symposium on Nanoscale Pattern Formation at Surfaces, Copenhague (Dinamarca). 26-30 mayo 2013

Fecha de publicación: 26-may-2013

Cita:
A. Moreno Barrado, M. Castro, "Molecular dynamics of ion beam implantation of xenon, argon and silicon in crystalline silicon", presentado en International Symposium on Nanoscale Pattern Formation at Surfaces, Copenhague, Dinamarca, 26-30 mayo 2013

Líneas de investigación:

*Sistemas Mecánicos: Mecánica estructural, elementos de máquinas, prototipado rápido, metrología dimensional

Grupos de investigación:

Instituto de Investigación Tecnológica (IIT)

IIT-13-051A

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